DETX yn radical rhad ac am ddim effeithlon (math II) photoinitiator.Its tonfedd amsugno uchafswm wedi ei leoli yn y rhanbarth tonnau hir uwchfioled, sy'n arbennig o addas ar gyfer LED UV halltu system.The cyfansawdd yn cael ei ddefnyddio'n eang mewn UV halltu inciau, haenau, gludyddion a photoresists, ac ati, a gall effeithiol gymell yr adwaith polymerization o ester acrylig a monomerau eraill.
Prif nodweddion y cynnyrch fel y nodir isod
Amsugno tonnau hir a solidification dwfn
Mae ei donfedd amsugno uchaf yn cydweddu'n fawr â ffynonellau golau UV-LED prif ffrwd 385- 395nm, a all dreiddio i haenau pigment a ffilmiau trwchus yn effeithiol, cyflawni halltu dwfn ac unffurf, a gwella effeithlonrwydd halltu.
Yn enwedig ar gyfer haenau a systemau inc sy'n cynnwys titaniwm deuocsid, pigmentau lliw, a llenwadau amrywiol, maent yn goresgyn y dagfa o dreiddiad golau gwael cychwynwyr traddodiadol mewn systemau lliw
Dyodiad isel, arogl isel
Mae hydoddedd dŵr isel a hydoddedd lipid uchel (LogP) yn golygu bod ganddo gydnawsedd rhagorol â'r rhan fwyaf o resinau a monomerau acrylig, gan ei gwneud hi'n hawdd ei ffurfio. Yn bwysicach fyth, mae hyn yn helpu i'w drwsio yn y rhwydwaith croes-gysylltiedig ar ôl gwella, gan leihau ei dueddiad i fudo i'r wyneb cotio.
Gweithgaredd halltu uchel
Caniatáu symiau adio cymharol isel (fel arfer 0.5% -3%) yn y fformiwla, ynghyd â ei hydoddedd da, gall leihau'r effaith ar gludedd system a lleihau'r risg o polymerization blocio ocsigen oherwydd mudo cychwynnwr i'r wyneb.

Cais
Cymwysiadau swbstrad wedi'u hargraffu
Gellir defnyddio ei sensitifrwydd i donfeddi penodol i wneud platiau fflecsograffig neu PS, gan wireddu proses gwneud platiau cydraniad uchel a chyflym, gan ddiwallu anghenion cynhyrchu effeithlon yn y diwydiant argraffu.

Cymwysiadau inc halltu UV
Gall ei amsugno effeithlonrwydd uchel o olau UV tonnau hir wireddu halltu dwfn a sychu arwyneb inc, ac osgoi glynu arwyneb a achosir gan bolymereiddio ocsigen.

Cae cais paent arwyneb dodrefn
Mae gan DETX nodweddion treiddiad a halltu da ar y swbstrad pren, gall gyflawni proses halltu effeithlonrwydd uchel a defnydd isel o ynni, a rhoi sglein uchel a gwrthiant crafu i'r wyneb.

Cymhwysiad resin ffotosensitif argraffu 3D
Wrth halltu argraffu 3D ysgafn (fel SLA a DLP), gall sicrhau bod yr adwaith polymerization resin yn digwydd yn union o dan ffynhonnell golau tonfedd benodol, gan sicrhau cywirdeb mowldio a chryfder mecanyddol y rhannau printiedig.

Pecyn a Storio
Pecyn
Drwm 20kg neu 25kg, neu ofyniad cleientiaid
Storio
Cadwch y cynhwysydd wedi'i selio.
Wedi'i storio mewn lle oer a sych (2-8 gradd), osgoi golau haul uniongyrchol.

FAQ
C: Beth yw'r swm a argymhellir i'w ychwanegu?
A: Fel arfer yn amrywio o 0.1% i 5.0% o gyfanswm pwysau'r fformiwla, mae angen optimeiddio'r dos penodol trwy arbrofion yn seiliedig ar y system fformiwla, trwch ffilm, dwyster ffynhonnell golau, a gofynion cyflymder halltu
C: Beth yw'r gwahaniaeth rhwng cychwynwyr math I?
A: Rhaid defnyddio DETX, fel cychwynnwr math II, ar y cyd â hyrwyddwyr amin fel MDEA ac esters acrylig wedi'u haddasu amin i gyflawni'r effeithlonrwydd mwyaf posibl. Dyma'r gwahaniaeth allweddol mewn dyluniad fformiwleiddiad rhwng DETX a chychwynwyr math I fel TPO a 1173.
C: Pam mae'n well gan y diwydiant electroneg ddefnyddio'r cynnyrch hwn?
A: Oherwydd bod ei broses halltu yn gymharol ysgafn a bod y crebachu cyfaint yn fach, gall leihau'r difrod straen mewnol ar gydrannau electronig manwl gywir, ac mae gan ei ddeunydd wedi'i halltu ymwrthedd inswleiddio a chemegol rhagorol, sy'n bodloni gofynion dibynadwyedd cynhyrchion electronig.
Manyleb Cynnyrch
Ymdoddbwynt: 66-71 gradd
berwbwynt:429.7 gradd
Dwysedd:Tua 1.178 g/cm3
λ max:261 nm, 291 nm, a 386 nm.
Hydoddedd:gyda hydoddedd da a chydnawsedd yn y rhan fwyaf o monomerau acrylig, gwanwyr gweithredol, ac oligomers.
Mae'r hydoddedd tua 8 ug/L (20 gradd) mewn dŵr.
|
EITEM |
Safonol |
| Ymddangosiad | soletrwydd melynaidd |
| GC, % |
Mwy na neu'n hafal i 98% |
|
Ystod / gradd pwynt toddi |
66-70 |
|
Colli wrth sychu |
Llai na neu'n hafal i 0.20 % |
|
Gweddillion ar danio |
0.1% ar y mwyaf |








